化学反应原理综合大题(一)
1．(2023·广州模拟)高纯硅用途广泛，SiHCl3是制备高纯硅的主要原料，制备SiHCl3主要有以下工艺。
Ⅰ.热氢化法：在1 200～1 400 ℃、0.2～0.4 MPa条件下，H2和SiCl4在热氢化炉内反应。
(1)请写出该反应的化学方程式：_______________________________________________。
(2)已知热氢化法制SiHCl3有两种反应路径，反应进程如图所示，该过程更优的路径是________(填“a”或“b”)。
Ⅱ.氯氢化法：反应原理为Si(s)＋3HCl(g)SiHCl3(g)＋H2(g) ΔH<0。
(3)在恒温恒容条件下，该反应达到化学平衡状态，下列说法正确的是________(填字母)。
A．HCl、SiHCl3和H2的物质的量浓度之比为3∶1∶1
B．向体系中充入HCl，反应速率增大，平衡常数增大
C．向反应体系充入惰性气体，平衡不发生移动
D．移除部分SiHCl3，逆反应速率减小，平衡向正反应方向移动
Ⅲ.冷氢化法：在一定条件下发生如下反应
